El método descrito en la revista “Nature Nanotechnology” y recogido en Self-assembling computer chips propone el uso de haces de electrones para crear una secuencia de pequeños huecos a lo largo de surcos trazados sobre el silicio, “similar a los que quedan sobre un campo arado” en los que luego se depositan moléculas de polímeros formados por dos tipos de elementos que se distribuyen por sí mismas en los huecos, formando patrones útiles en la construcción de microchips.
Modificando la longitud de los surcos, la distancia de los huecos en cadena y las proporciones de los dos elementos que compoenen las moléculas de polímeros se pueden obtener diversas configuraciones.
Actualmente la fabricación de microchops se realiza colocando capas superpuestas de material fotosensible en un proceso denominado fotolitografía. Superponiendo una máscara de material opaco a la luz, al exponer el material fotosensible a un haz de luz ultravioleta se “revelan” los componentes del circuito allí donde no hay máscara opaca.
Sin embargo, los niveles de miniaturización implican que algunas partes de los componentes de los microchips pueden llegar a ser tan pequeños como un átomo, que son incluso menores que la longitud de onda de la luz utilizada para fabricarlos. En estos casos se recurre a un costoso y complejo proceso denominado nanolitografía que en lugar de un haz de luz utiliza haces de moléculas para trazar los componentes que forman el microchip.
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